新方法预测晶体管缩小的物理极限值—新闻

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新方法预测晶体管缩小的物理极限值

科技日报北京6月17日电（记者张佳欣）韩国科学技术院研究团队通过基于量子力学的原子尺度计算，系统分析了电子在沟道中的渗透行为及其对不同金属电极和接触结构的依赖关系。而是受金属功函数及接触界面原子结构共同调控的设计变量。

半导体工业通过不断缩小晶体管尺寸来提升算力并降低功耗。晶体管缩放极限一直难以被直接验证。是下一代芯片研发的关键问题。

所谓“关键隧穿长度”并不是统一常数，

针对这一难题，显示出晶体管继续微缩的潜在空间。并据此确定量子隧穿发生的临界尺度。从而精确描述金属电极与半导体界面及电子输运中的量子行为。在所模拟的多种结构中，晶体管的最小尺度并非固定值，须保留本网站注明的“来源”，但由于实验上难以在原子尺度精确控制并定量分析金属电极与半导体沟道之间的接触结构，

在此基础上，并自负版权等法律责任；作者如果不希望被转载或者联系转载稿费等事宜，当晶体管尺寸缩小到极限时，研究团队采用“从头算”第一性原理计算方法，请与我们接洽。研究以单层二硫化钼这一典型二维半导体材料为模型，提出了一种预测晶体管缩小物理极限值的新方法。以提取金属—半导体接触电阻，相关成果发表于新一期《计算材料学》期刊。团队开展了“计算版传输长度法”分析，将计算能力从材料层面扩展至器件层面，